東京大学大学院工学系研究科　マテリアル工学専攻　霜垣研究室

ごあいさつ

「薄膜プロセスが次世代を切り開く」

時代の進展とともに化学技術が発展し、従来製品はますます高度化し、一方で新たな機能をもつ製品が台頭するこの循環は未来永劫続くものと思われる。従来物質の特性向上や新規物質の創成などマテリアル工学はこの流れの未来を大きく左右する。材料の研究は新しい物質を創成することと思われている方も多いが、その作り方（プロセス）と密接に関わっていることが多い。このことは、2000℃/1万気圧の地層中で生成されるダイヤモンドは、化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition; CVD)を使うと、数百度/大気圧でも形成できることからも理解できるであろう。

当研究室は材料形成プロセスの中でも薄膜形成プロセスに着目し、プロセスの高度化や新規プロセスの提案を行っている。我々はこれを「デバイスプロセス工学」と命名し、プロセスの体系的理解、さらにはプロセスパフォーマンスの向上を通じて、従来技術ではなし得なかった高い付加価値をもつ材料の創成に挑んでいる。詳しくは「研究テーマ」をご覧ください。

研究室紹介動画ができました．2020年オンライン五月祭にて利用されたものです．
動画を作成してくださった大塚竜慈さんと島岡慧さんに感謝いたします．

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