東京大学｜霜垣研究室

ごあいさつ

「薄膜プロセスが次世代を切り開く」

時代の進展とともに化学技術が発展し、従来製品はますます高度化し、一方で新たな機能をもつ製品が台頭するこの循環は未来永劫続くものと思われる。従来物質の特性向上や新規物質の創成などマテリアル工学はこの流れの未来を大きく左右する。材料の研究は新しい物質を創成することと思われている方も多いが、その作り方（プロセス）と密接に関わっていることが多い。このことは、2000℃/1万気圧の地層中で生成されるダイヤモンドは、化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition; CVD)を使うと、数百度/大気圧でも形成できることからも理解できるであろう。

当研究室は材料形成プロセスの中でも薄膜形成プロセスに着目し、プロセスの高度化や新規プロセスの提案を行っている。我々はこれを「デバイスプロセス工学」と命名し、プロセスの体系的理解、さらにはプロセスパフォーマンスの向上を通じて、従来技術ではなし得なかった高い付加価値をもつ材料の創成に挑んでいる。詳しくは「研究テーマ」をご覧ください。

研究室紹介動画ができました．2020年オンライン五月祭にて利用されたものです．
動画を作成してくださった大塚竜慈さんと島岡慧さんに感謝いたします．

NEWS

2024.04 鄧さん，大高さんがポスドクとして着任しました．
2024.03 博士課程2名が修了・学位取得しました．修士課程2名が修了，学部生1名が卒業しました．おめでとうございます．
2024.03 化学工学会第89年会にて発表を行いました．
2023.12 ポスドク山口さんのCo ALDに関する論文がECS Journal of Solid State Science and Technologyから出版されました．
2023.10 ADMETA Plus 2023にて発表を行いました．
2023.09 ポスドク山口さん，D3呉君，M2木村君がCVD反応分科会主催シンポジウムにおいて若手奨励賞，学生奨励賞を受賞しました．
2023.09 化学工学会第54回秋季大会，応用物理学会第84回秋季学術講演会にて発表を行いました．
2023.04 百瀬講師が異動しました．山口さんがポスドクとして着任しました．
2023.03 博士課程1名が修了・学位取得しました．学部生2名が卒業しました．おめでとうございます．
2023.03 化学工学会第88年会，応用物理学会第70回春季学術講演会にて発表を行いました．
2022.09 ポスドク佐藤さんがCVD反応分科会主催シンポジウムにおいて若手奨励賞を受賞しました．詳細はこちらから．
2022.09 化学工学会第53回秋季大会，応用物理学会第83回秋季学術講演会にて発表を行いました．
2022.04 出浦助教が異動しました．
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