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ごあいさつ

「薄膜プロセスが次世代を切り開く」

時代の進展とともに化学技術が発展し、従来製品はますます高度化し、一方で新たな機能をもつ製品が台頭するこの循環は未来永劫続くものと思われる。従来物質の特性向上や新規物質の創成などマテリアル工学はこの流れの未来を大きく左右する。材料の研究は新しい物質を創成することと思われている方も多いが、その作り方(プロセス)と密接に関わっていることが多い。このことは、2000℃/1万気圧の地層中で生成されるダイヤモンドは、化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition; CVD)を使うと、数百度/大気圧でも形成できることからも理解できるであろう。

当研究室は材料形成プロセスの中でも薄膜形成プロセスに着目し、プロセスの高度化や新規プロセスの提案を行っている。我々はこれを「デバイスプロセス工学」と命名し、プロセスの体系的理解、さらにはプロセスパフォーマンスの向上を通じて、従来技術ではなし得なかった高い付加価値をもつ材料の創成に挑んでいる。詳しくは「研究テーマ」をご覧ください。


研究室紹介動画ができました.2020年オンライン五月祭にて利用されたものです.
動画を作成してくださった大塚竜慈さんと島岡慧さんに感謝いたします.

NEWS

  • 2023.04    百瀬講師が異動しました.
  • 2022.04    出浦助教が異動しました.
  • 2022.03    修士課程2名が修了,学部生3名が卒業しました.おめでとうございます.
  • 2022.03    ポスドク佐藤さんのSiC-CVDシミュレーションに関する論文がInternational Journal of Chemical Kineticsから出版されました.
  • 2022.03    M2安治君が化学工学会第87年会にて学生奨励賞(ポスター賞)を受賞しました.おめでとうございます.詳細はこちらから.
  • 2022.03    化学工学会第87年会,応用物理学会第69回春季学術講演会にて発表を行いました.
  • 2022.03    ポスドク黄さんのTHz導波管向け金属材料選定に関する論文がJournal of Applied Physicsから出版されました.
  • 2021.12    黄さん(当研究室卒業生)がポスドクとして着任しました.
  • 2021.10    修士1年生が1名入学しました.
  • 2021.09    博士課程1名が修了・学位取得しました.おめでとうございます.
  • 2021.09    応用物理学会,化学工学会にて発表を行いました.
  • 2021.08    D3黄君のTHz導波管の伝搬損失に関する論文がJournal of Applied Physicsから出版されました.
  • 2021.05    ポスドク佐藤さんのSiC-CVDシミュレーションに関する論文がInternational Journal of Chemical Kineticsから出版されました.
  • 2021.04    修士1年生が1名進学し,卒論生3名が加わりました.